納米級(jí)硅溶膠電子拋光藍(lán)寶石CMP半導(dǎo)體研磨氧化硅拋光液

硅溶膠在拋光中的應(yīng)用

1.納米二氧化硅拋光液是以硅溶膠為主要原料，經(jīng)過(guò)特殊工藝生產(chǎn)的一種拋光產(chǎn)品，廣泛用于多種材料表面的平坦化拋光，如電子產(chǎn)品的金屬外殼、手機(jī)攝像頭玻璃、 Home鍵、計(jì)算機(jī)硬盤盤片、硅晶片等表面的拋光加工。

2.納米二氧化硅拋光液的拋光過(guò)程是在拋光機(jī)上實(shí)現(xiàn)的，在拋光過(guò)程中拋光墊和工件相對(duì)做旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，拋光液(磨料)在旋轉(zhuǎn)的拋光墊與工件之間流動(dòng)，在一定壓力、溫度和轉(zhuǎn)速作用下，發(fā)生化學(xué)機(jī)械拋光過(guò)程-簡(jiǎn)稱CMP(Chemical Mechanical Polishing)，因此拋光過(guò)程是在化學(xué)的和機(jī)械的綜合作用下，使工件表面平整化(拋光)。

3.在拋光過(guò)程中，拋光液的主要作用是:

①拋光作用，通過(guò)研磨、腐蝕、吸附反應(yīng)物來(lái)實(shí)現(xiàn);

②潤(rùn)滑作用;

③冷卻降溫作用;

④沖洗排渣作用。

4.硅溶膠是納米拋光液的重要組成部分，其粒徑、粒子形態(tài)、粒徑分布、濃度、pH和雜質(zhì)含量會(huì)直接影響拋光材料表面去除率和表面粗糙度或波紋度之間的平衡，進(jìn)而影響材料表面的拋光質(zhì)量。我公司與相關(guān)行業(yè)合作密切，致力于不斷推出和優(yōu)化拋光液系列產(chǎn)品，為客戶提供 的服務(wù)和解決方案。我公司可以生產(chǎn)多種特性的硅溶膠拋光液。

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